近年来，德国蔡司集团的半导体负责人Frank Rohmund在一次采访中表示，中国在开发极紫外光（EUV）光刻机方面预计还需约15年的时间。他认为这一预测是合理的，但也承认中国在这一领域的具体进展难以评估。目前，ASML是全球唯一能够制造EUV光刻机的公司，而EUV技术是如英伟达AI加速器等先进芯片生产的关键。
由于EUV技术的重要性，美国已经利用这一点限制向中国出口相应的设备，同时也在努力扩大对其他先进光刻机的出口管制。Rohmund对此指出，如果未来传统的浸润式深紫外光（DUV）设备也受到限制，将对相关产业产生负面影响。他明确表示，这些出口管制措施并不会产生积极效果，反而可能促使中国加快创新和技术进步。
他指出，制裁压力可能迫使中国研发团队加速追赶技术发展步伐，这与ASML首席执行官富凯的观点相吻合，认为收紧出口管制将助长中国的自主研发替代设备的速度。蔡司也承认，中国在DUV光刻机领域已经取得一些进展，最近有一家位于上海的公司开始制造相关设备。尽管如此，Rohmund强调，仍需观察这些设备的实际性能，因为他们依然在技术上处于领先地位。蔡司是全球约80%芯片所用光学元件的主要供应商，而ASML在2017年收购了蔡司半导体事业的部分股份。 龙8体育
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